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制造先进的磁控溅射源和电弧抑制直流电源。快速目标交换系统消除了紧固件。高效冷却,高速率,无磁铁或目标过热。腐蚀面积大,反应溅射稳定,靶材使用寿命长。为满足特定应用而优化的源。
成立时间:1992年
所有权类型:私有
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Manufactures advanced magnetron sputtering sources and arc-suppressing DC power supplies. Fast target exchange system eliminates fasteners. Efficient cooling, high rates without magnet or target overheating. Wide uniform erosion area, stable reactive sputtering, long useful target life. Sources optimized to meet specific applications.
Established: 1992
Ownership type: Privately Owned

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